JSM-IT100（JEOL 日本電子 InTouchScope™ 鎢燈絲掃描電鏡）

一、基礎定位

二、核心光學參數(shù)

1. 分辨率

• 高真空 HV：3 nm @30 kV（二次電子 SE）；4 nm@20 kV、8 nm@3 kV、15 nm@1 kV

• 低真空 LV：4 nm @30 kV、5 nm @20 kV

• 背散射 BSE：4 nm @30 kV

2. 電子槍與電壓

• 燈絲：預對中鎢發(fā)夾燈絲，支持全自動電子槍對中

• 加速電壓：0.5～30 kV（53 檔精細調節(jié)）；低真空模式上限 20 kV

• 放大倍率：5×～300,000×

3. 真空系統(tǒng)

• 模式：高真空標配；低真空 LV 選配（10～100 Pa），可觀測不導電樣品無需噴金

• 真空泵：分子泵 + 旋轉泵，無需外接冷卻水，普通市電即可運行

4. 樣品臺（同心全自動臺）

• X：80 mm / Y：40 mm / Z：5～48 mm

• 傾斜：-10°～+90°，360° 連續(xù)旋轉

• 最大樣品直徑：150 mm，兼容大尺寸塊狀樣品

三、機身與安裝優(yōu)勢

1. 占地比前代機型縮小約 30%，體積接近臺式桌面電鏡，實驗室改造門檻低

2. 僅需單相市電，無循環(huán)水冷機組，運維成本更低

3. 一體化觸控 InTouchScope 軟件，SEM 成像與 EDS 能譜同窗口無縫切換JEOL Ltd.

四、EDS 能譜選配功能（原廠硅漂移 SDD）

• 基礎：元素定性 / 定量、點分析、線掃描、元素面分布 Mapping

• 增強：局部區(qū)域分析、Mapping 濾波、漂移補償、自動圖譜采集

• 輸出：BMP/TIFF/JPG 圖像、能譜原始數(shù)據導出

五、適用場景

1. 金屬材料：斷口失效分析、金相組織、鍍層厚度、夾雜物觀察

2. 無機非金屬：陶瓷、礦石、粉體、涂層、半導體晶圓形貌

3. 高分子 / 復合材料：塑料、玻纖、填料分散觀察（低真空免噴金）

4. 高校教學、質檢實驗室、中小企業(yè)來料檢測、微量異物分析

六、主要選配模塊

• 低真空 LV 組件（絕緣樣品免噴金）

• JEOL 原廠 SDD EDS 能譜儀

• 導航臺、景深合成、顆粒統(tǒng)計分析軟件

• 高低溫樣品臺、拉伸臺、腐蝕原位臺等原位模塊

七、機型對比小結

• 優(yōu)勢：鎢燈絲維護成本低、占地小、免水冷、操作簡單、成像穩(wěn)定；配套 EDS 一體化程度高

• 短板：鎢燈絲亮度不如場發(fā)射，高分辨極限 3 nm，不適合納米級超高分辨科研；